Material

CMP Materials

我們提供全系列的CMP材料，例如CMP墊、研磨液和清洗化學品。

Specialty Gases/ Precursors

我們供應各種高純度、高品質的半導體級特種氣體，例如 SiH4、Si2H6、SiF4、20%N2/F2、N2O、C4F6、C4F8、CH3F 和 72GEF4 等。我們也供應先進的製程特種氣體，例如 COF2、CF3COF、1336mzz(E) 和 1225ye(Z) 等。

我們供應半導體製造中使用的各種高純度、高品質的化學品和前體，例如 TEOS、HCDS、TCS、POCL3、HF、NH4OH、HNO3 和 NH4F 等。