Hard PAD：

Soft PAD：

‧TOP PAD原料採用微球，與發泡劑產生化學反應，並採用正確的混合添加劑，以達到研磨墊所需的特性。 ‧可配合客戶製程需求進行調整。

CMP Slurry

技術團隊由來自全球跨國公司、在同一領域擁有豐富經驗的成員組成。以研發為主導，設有6個研磨液研發團隊、3個化學清洗研發團隊、1個原料開發團隊。高效率製造－從原料開始的垂直整合製造，自動化程度高，資料收集和分析數位化，生產設備多樣化，清潔度要求高。嚴格的品質控制－科學的品質控制方法，自動化的SPC檢測，從進料到最終產品的每個階段都進行品質檢驗。

▍Pad Conditioning Disk

Brazing

Brazing intelligent production system running , 10,000 pcs/ mth.

Plating

Plating technical R&D completed, currently qualification stage, estimated monthly output of 5,000 pcs.

CVD

CVD工technical R&D completed able to provide sample to customers if requested.

• The only company in the world who owns all 3 techniques of CP Disc Production.
  
   
  DISK製程特點對比